陽極鋁氧化和普通鋁氧化的區別：
陽極鋁氧化的氧化膜有50%滲透在鋁合金內部，50%附著在鋁合金表面，因此鋁氧化后產品外部尺寸變大，內孔變小。
（一）操作條件方面的差異：
1、溫度不同：普通氧化18-22℃左右，有添加劑的可以到30℃，溫度過高易出現粉末或裂紋；鋁氧化一般在5℃以下，相對來說溫度越低硬質越高。
2、電流/電壓差異：普通氧化電流密度一般：1-1.5A/dm2；而鋁氧化：1.5-5A/dm2；普通氧化電壓≤18V，鋁氧化有時高達120V。
3、濃度差異：普通氧化一般20%左右；鋁氧化一般在15%或更低。
（二）膜層性能方面的差異：這些是我們平常用的較多的性能方面的比較，還有其他許多方面的差異。
1、普通氧化基本是透明膜；鋁氧化由于膜厚，為不透明膜。
2、表面狀態：普通氧化表面較光滑，而鋁氧化表面較粗糙（微觀，和基體表面粗糙度有關）。
3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高；而鋁氧化孔隙率低。
4、膜層厚度：普通氧化膜層厚度相對較薄；鋁氧化一般膜層厚度>15μm，過低達不到硬度≥300HV的要求。
5、適用場合不同：普通氧化適用于裝飾為主；而鋁氧化以功能為主，一般用于耐磨、耐電的場合。