（2）拋光浴溫度20-30℃，不得低于20℃，拋光時(shí)間為20分鐘
（3）歪斜，剩余凈下降，在清水池沖洗敏捷，洗兩次在氧化池氧化后敏捷，留在水槽時(shí)間不宜超過(guò)3分鐘;
（4）低溫研磨材料應(yīng)當(dāng)在拋光處理的其他方法的前面，也不能將就其他插槽液體到拋光槽。
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（2）拋光浴溫度20-30℃，不得低于20℃，拋光時(shí)間為20分鐘
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