關于鋁陽極氧化膜形成機制，已經有很多的研究在國內外，并極大地促進了鋁合金陽極氧化的理論的發展。一般思想：在硫酸陽極化電解質直流陽極氧化，作為陽極的鋁，陽極化在初始過渡期間，其表面是均勻的氧化，產生一個非常薄的，但有一個非常致密隔膜，由于硫酸的效果溶液，膜的最弱點（如晶粒邊界和雜質密度點，晶格缺陷或變形）發生局部溶解，出現了大量的孔，即原生氧化中心的，使基質金屬可以來與接觸入孔，并因此導通電流的電解質，新一代的氧離子被用于新的金屬氧化物，并集中在孔的底部，最終滿足，在一個新層的舊膜和金屬膜之間，使得舊膜的部分溶解為“修復”。
隨著陽極氧化時間的延長，膜溶解或修理，陽極氧化反應的進一步發展，以，使產品的表面產生的襯里的薄的多孔陽極氧化膜的外層，致密且厚，但。在電費的氧化過程鋁陽極氧化跳現象，是由陽極氧化膜屏障，第一孔的表面上產生的勢壘層的增厚，孔表面時達到一定厚度攤開超越表面，即在多孔層的生長過程中，阻擋層的厚度也已經逐漸增厚，只有在第二次時實現厚度恒定。電解電極的反應是：