（一）操作條件方面的差異：
1、溫度不同：普通氧化18-22℃左右，有添加劑的可以到30℃，溫度過高易出現(xiàn)粉末或裂紋；硬質(zhì)氧化一般在5℃以下，相對來說溫度越低硬質(zhì)越高。
2、濃度差異：普通氧化一般20%左右；硬質(zhì)氧化一般在15%或更低。
3、電流/電壓差異：普通氧化電流密度一般：1-1.5A/dm2；而硬質(zhì)氧化：1.5-5A/dm2；普通氧化電壓≤18V，硬質(zhì)氧化有時(shí)高達(dá)120V。一般在5℃以下，相對來說溫度越低硬質(zhì)越高。
（二）膜層性能方面的差異：
1、膜層厚度：普通氧化膜層厚度相對較薄；硬質(zhì)氧化 一般膜層厚度>15μm，過低達(dá)不到硬度≥300HV的要求。2、表面狀態(tài)：普通氧化表面較光滑，而硬質(zhì)氧化 表面較粗糙（微觀，和基體表面粗糙度有關(guān)）。
3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高；而硬質(zhì)氧化 孔隙率低。
4、普通氧化基本是透明膜；硬質(zhì)氧化 由于膜厚，為不透明膜。
5、適用場合不同：普通氧化適用于裝飾為主；而硬質(zhì)氧化 以功能為主，一般用于耐磨、耐電的場合。
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